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半导体、LCD 和 LED 分析解决方案
说到半导体、LCD 和 LED 行业，其发展速度对我们来说是一个相当大的推动力。为了保持领先地位，我们必须快速开发创新解决方案，不断发展以满足越来越严格的要求。因此，我们可以自豪地说，我们在半导体、LCD 和 LED 解决方案领域提供最先进、最创新的产品系列，我们的产品组合证明了我们对您的承诺。
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集成解决方案
Application Note
AN-16 利用微型 GCsense 平台进行快速粗氩分析技术报告t
本报告介绍了使用 ASDevices 的 Mini GCSense 平台进行粗氩分析（氧气中的痕量氮气）所获得的结果。针对 0-1000ppm 的测量范围对参数进行了优化，但也可测量超范围的 N2 浓度。了解用于粗氩气分析的 Mini GCSense 平台配置。
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Application Note
AN-15 无 SCD、FPD 和热解吸器的燃料级 H2 中的痕量硫。
了解我们的氢气中痕量硫分析解决方案的测试报告。我们的设备不带 SCD 或 FPD 检测器，不需要热解吸器来浓缩样品中的硫杂质，以达到当前 4 ppb LOD（检测限）的目标标准。我们的解决方案采用优质元件和简单易用的 SePdd 传感器，只需使用惰性载气，并且是固态的。
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Application Note
AN-10 – 用于硫分析的吹扫密封阀
众所周知，超痕量硫分析是一项困难的测量工作。需要特别考虑所有惰性部件的惰性。为此，我们开发了特殊的涂层技术，以解决色谱阀惰性涂层性能不佳的问题。本文件介绍了 PLSV 阀门技术的优点。
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AN-09 – 利用增强型等离子体放电（Epd）技术测量氢气中的硫基化合物
利用气相色谱法和增强型等离子体放电（Epd）技术对氢气中含有硫基化合物的样品进行了分析。结果显示可检测到所有硫基化合物，检测限低至 1ppb。使用 ASDevices 的 PLSV 阀及其独特的峰重塑算法（专利申请中）进行样品预浓缩，进一步提高了该方法的灵敏度。在测量燃料级氢气中的硫基杂质方面，Epd 技术是硫化学发光检测器 (SCD) 和火焰光度检测器 (FPD) 的革命性替代品。
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Application Note
AN-04 – 提高氩气回收率
提高空气分离设备的氩气回收率
为了达到并保持最佳的氩气提取效率，必须对氩气抽出混合物进行适当控制。工厂通常会在粗氩中保持较低的氮含量，以避免停产，但这会导致氩气回收率低下。我们的 GC Sense 系列通过更好地控制空气分离现有的低压柱，解决了所有这些问题。这意味着您将从更高的氩气产量和更低的总体运营成本中获益。
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温室气体
我们用于温室气体分析的环保创新解决方案使用氮气作为载气，而不像用于测量 CH4 和 N 2O 的 FID 解决方案需要 H2 作为可燃物。我们设计的简易色谱解决方案采用固态增强等离子体放电技术进行测量，在设计时充分考虑了稳健性、性能和拥有成本。
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O2 纯度
我们的碳氢化合物分析解决方案在设计之初就考虑到了空气分离领域中坚固性、性能和经济性的重要性。使用 ASDevices 的高品质组件：高灵敏度的 eFID 检测器、低维护成本的防泄漏气相色谱仪阀和可靠的工业气相色谱仪平台（提供 IIot 功能等先进功能），您可以放心使用，并获得无与伦比的性能。
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Data Sheet
Lab bottling center
Customers are requiring more stringent control of gas quality with impurity levels in gases expected to be well below 50 ppb. Thanks to our patented enhanced plasma discharge technology, our gas quality certification solution offers the lowest limit of detection on the market, ranging from 5 to 15 ppb. Get unsurpassed analytical performance and advanced signal processing with our high-quality components like our ultra-sensitive scalable enhanced plasma discharge detector (SePdd).
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Data Sheet
Crude Argon
Crude argon is a very common application for air separation plant optimization. Get the simplest and fasted crude argon analyzer in the world, thanks to ASDevices exclusive enhanced plasma discharge (Epd) detectortechnology and proprietary spectral compensation algorithm technology. Achieve a 30 second analysis cycle with our very simple chromatographic method that uses only one valve, one column and no O2 trap. With our parallel chromatographic channel, the cycle time can be as short as 15 seconds.
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Data Sheet
Helium purity
Our helium quality analysis solution is the most compact on the market. ASDevices solution features high quality components and delivers unsurpassed performance with all the features required for industrial gas manufacturers or any other application needing helium quality analysis. Improve robustness and reduce overall operational costs thanks to our proprietary enhanced plasma discharge (Epd) sensing technology, that can be used with helium carrier gas, and our simple chromatographic process.
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Data Sheet
Argon purity
Our argon quality analysis solution is the most compact on the market. Thanks to ASDevices high quality components, it delivers unsurpassed performance and all the features required for industrial gas manufacturers or any other application that needs argon quality analysis. Our proprietary enhanced plasma discharge (Epd) sensing technology, that can be used with argon carrier gas, combined with our simple chromatographic process, improves robustness and reduce overall operational cost.
下载PDF文件GC 阀
Application Note
AN-17 PLSV 阀门吹扫技术与泄漏管理原理说明
我们已经测试了几乎所有现有的 GC 阀门（Valco、Siemens、Yokogawa、ABB、AFP），并花了数十年时间对现有阀门设计进行审查以改进它们。在提高使用寿命、减少泄漏和死体积等方面，我们获得了 30 多项专利。我们能够改进传统锥形旋转阀和隔膜阀技术的阀门泄漏完整性。所有阀门都会泄漏或在某些时候会泄漏，但重要的是泄漏程度和泄漏率。最终的挑战是设计出一种使用寿命更长、磨损更小的阀门，并能在不影响色谱性能的情况下处理不可避免的泄漏。这就是我们 PLSV 技术的目的。
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AN-16 利用微型 GCsense 平台进行快速粗氩分析技术报告t
本报告介绍了使用 ASDevices 的 Mini GCSense 平台进行粗氩分析（氧气中的痕量氮气）所获得的结果。针对 0-1000ppm 的测量范围对参数进行了优化，但也可测量超范围的 N2 浓度。了解用于粗氩气分析的 Mini GCSense 平台配置。
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AN-15 无 SCD、FPD 和热解吸器的燃料级 H2 中的痕量硫。
了解我们的氢气中痕量硫分析解决方案的测试报告。我们的设备不带 SCD 或 FPD 检测器，不需要热解吸器来浓缩样品中的硫杂质，以达到当前 4 ppb LOD（检测限）的目标标准。我们的解决方案采用优质元件和简单易用的 SePdd 传感器，只需使用惰性载气，并且是固态的。
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AN-14 处理具有挑战性的样品
针对反应性和/或有毒样品基质的 ASDevices 客户采样系统和气相色谱仪配置指南。也适用于稳定或惰性样品背景中的活性或有毒杂质。目的是创造一个安全的工作环境，避免反应性样品泄漏到设备中造成设备损坏。本应用说明应由经过培训的合格人员结合特定硬件制造商的说明使用。
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Application Note
AN-13 – 压降和死体积： PLSV 与隔膜阀的对比
在使用气相色谱仪/质谱仪测量挥发性有机化合物时，PLSV 阀门技术与 AFP ELDV-2 隔膜阀进行了比较。第三方测试证明了吹扫密封阀 (PLSV) 技术与隔膜阀在压降和死体积性能方面的优势。
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AN-10 – 用于硫分析的吹扫密封阀
众所周知，超痕量硫分析是一项困难的测量工作。需要特别考虑所有惰性部件的惰性。为此，我们开发了特殊的涂层技术，以解决色谱阀惰性涂层性能不佳的问题。本文件介绍了 PLSV 阀门技术的优点。
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AN-08 – 色谱阀的质的飞跃
本应用说明展示了吹扫密封阀 (PLSV) 技术在气相色谱和样品流选择方面的独特特性。本应用说明展示了吹扫密封阀 (PLSV) 技术在气相色谱法和样品流选择方面的独特特性，其性能是通过在色谱仪上测量痕量 N2（量程为 1000 ppb，检测限为 1 ppb）所获得的结果来证明的。
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Application Note
AN-05 – Purged Lip Sealing Valve
The Purged Lip Sealing Valve (PLSV) technological innovation is the result of many years of experience and customer feedback in a quest to improve the diaphragm and conical rotary valve concept. The outcome is our PLSV valve which has shown, following intensive testing, a superior performance compared to any other valve on the market. Find out about our patented valve technology that combines the best of conical rotary and diaphragm valves.
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Application Note
AN-11 – 使用氩气替代氦气进行ppb级测量的新方法
使用 ASDevices 基于捕集与释放吹扫密封阀的预浓缩系统，采用新的测量方法简化您的色谱分析，并提高对各种基质中永久性气体的检测限（低于 1 ppb）。利用我们专有的纳米结构捕集材料和独特的阀门基质排气功能，可提高可靠性、缩短分析时间并节省硬件成本，从而无需使用切心或反冲即可轻松消除大部分基质。
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Product Guide
Epd User Guide
Introduction to the enhanced plasma discharge detector much more than a detector.
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AN-15 无 SCD、FPD 和热解吸器的燃料级 H2 中的痕量硫。
了解我们的氢气中痕量硫分析解决方案的测试报告。我们的设备不带 SCD 或 FPD 检测器，不需要热解吸器来浓缩样品中的硫杂质，以达到当前 4 ppb LOD（检测限）的目标标准。我们的解决方案采用优质元件和简单易用的 SePdd 传感器，只需使用惰性载气，并且是固态的。
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AN-11 – 使用氩气替代氦气进行ppb级测量的新方法
使用 ASDevices 基于捕集与释放吹扫密封阀的预浓缩系统，采用新的测量方法简化您的色谱分析，并提高对各种基质中永久性气体的检测限（低于 1 ppb）。利用我们专有的纳米结构捕集材料和独特的阀门基质排气功能，可提高可靠性、缩短分析时间并节省硬件成本，从而无需使用切心或反冲即可轻松消除大部分基质。
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AN-04 – 提高氩气回收率
提高空气分离设备的氩气回收率
为了达到并保持最佳的氩气提取效率，必须对氩气抽出混合物进行适当控制。工厂通常会在粗氩中保持较低的氮含量，以避免停产，但这会导致氩气回收率低下。我们的 GC Sense 系列通过更好地控制空气分离现有的低压柱，解决了所有这些问题。这意味着您将从更高的氩气产量和更低的总体运营成本中获益。
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集成在线解决方案
沪公网安备31011302007575号